捷佳伟创申请镀膜设备及镀膜方法专利，实现真空状态下连续沉积，可减少设备的占地面积，可以节省成本_资讯

捷佳伟创申请镀膜设备及镀膜方法专利，实现真空状态下连续沉积，可减少设备的占地面积，可以节省成本

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2024-04-13 08:57:18

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金融界2024年4月13日消息，据国家知识产权局公告，深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司申请一项名为“镀膜设备及镀膜方法“，公开号CN117867463A，申请日期为2024年1月。

专利摘要显示，本发明公开了一种镀膜设备及镀膜方法，属于镀膜设备及镀膜方法领域，镀膜设备包括设备本体和输送机构，设备本体内设置有相连通的进出料腔、第一镀膜腔、第二镀膜腔、第三镀膜腔、第四镀膜腔和第五镀膜腔，第一镀膜腔内可以进行蒸镀镀膜，第二镀膜腔内可以进行RF溅射镀膜，第三镀膜腔内可以进行RPD镀膜，第四镀膜腔内可以进行脉冲直流溅射镀膜，第五镀膜腔内可以进行直流溅射镀膜，输送机构安装于设备本体内，输送机构用于输送基板在各腔室之间流转。将RPD、多源蒸镀、RF溅射、脉冲直流溅射和直流溅射等多种真空镀膜技术整合到一台设备上，实现真空状态下连续沉积，可减少设备的占地面积，可以节省成本。

来源：金融界

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