金融界2024年3月16日消息,据国家知识产权局公告,欣旺达电子股份有限公司申请一项名为“一种腐刻液和腐刻方法“,公开号CN117702118A,申请日期为2023年11月。
专利摘要显示,本发明涉及腐刻技术领域,尤其是涉及一种腐刻液和腐刻方法。本发明的腐刻液,按质量百分比计,包括如下组分:硝酸5wt%~18wt%、冰醋酸2wt%~6wt%、白磷2wt%~5wt%和氧化铁2wt%~8wt%。本发明的腐刻液具有优异的腐刻能力和稳定性,改善了腐刻形貌,降低了腐刻膜厚偏差;采用本发明的腐刻液对钢板进行腐刻得到移印钢板,提高了凹位移印图文表面的平整度、光滑度、光亮和光泽度,保证了大小图文膜厚的匹配度,从而提高了移印使用寿命,节省了移印成本。
来源:金融界